光刻技术是半导体制造的基石，其性能直接关系到芯片的极限制程。在过去的几十年里，随着摩尔定律的不断推进，光刻机的技术也在不断演进。ASML的第一代LowNAEUV光刻机拥有0.33的孔径数值（NA），能够满足13.5nm的临界尺寸和26nm的最小金属间 ...

可如今老美却玩起了“光刻机讹诈”，而ASML在赚足腰包后也彻底不装了，妄图把我们买到的光刻机变成“废铜烂铁”，从而彻底堵死国产芯片的发展之路。就连不少外媒也纷纷表示，若没有足够多的光刻机设备正常运转，中国芯“弯道超车”估计是没戏了。

英为财情Investing.com - ASML ...

9月9日消息，荷兰最近调整了关于光刻机出口的政策，根据新规，ASML公司旗下两款先进制程的深紫外光刻机 TWINSCAN NXT:1970i和1980i DUV ，若需出口至欧盟以外国家，须获得当局批准。

目前的光刻机技术，已经是发展到第六代了，也就是EUV光刻机。 如下图所示，这是六代光刻机的发展情况，以及其对应的光刻机分类，光源波长、能够制造的芯片最小制程等。 目前国内光刻机技术，理论上来讲，还在第四代，也就是ArF光刻机，也称之为干式DUV光刻机 ...

近日，香港知名国际媒体《南华早报》刊载文章称，根据中国工业和信息化部（MIIT）的消息，中国近期推出了两种国产的半导体光刻机械，这些设备在深超紫外（DUV）光刻技术上取得了重大的技术突破，并且拥有自主知识产权。这两种机械尚未有过公开的市场表现，但据可 ...

周五，摩根士丹利调整了对ASML Holding NV (ASML:NA) (NASDAQ: ASML)股票的立场，将评级从增持下调至中性，并将目标价从之前的€925.00下调至€800.00。 投资公司指出，欧洲半导体资本设备板块可能面临潜在阻力，包括可能的支出放缓，这可能影响ASML在2025年和2026年的盈利增长。 阿斯麦公司以其半导体制造设备而闻名，可能面临挑战，原因是预计DRAM支出将 ...

快科技9月7日消息，据国外媒体报道称，荷兰政府公布了新的出口管制规定，要求ASML（阿斯麦）就其部分机器向海牙（荷兰南荷兰省的省会）而非美国政府申请许可证，新规将于2024年9月7日生效。

荷兰政府星期五 (9月6日)表示，将扩大对荷兰芯片设备制造商阿斯麦 (ASML)的1970i和1980i 深紫外 (DUV)浸没式光刻机的出口许可要求，两款机型大约是ASML所属DUV产品线的中阶产品。

文 | 孙永杰 日前，工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》（以下简称“目录”）中显示，中国已攻克氟化氩光刻机，其中该目录中，公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm指标引发了业内的关注。 几乎是与此同时，上海微电子披露了一项名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利。两则消息凑在一起，某些媒体和所谓大V们据称撰 ...

9月8日，中国商务部发布声明称，荷兰政府决定进一步扩展针对芯片设备制造商阿斯麦ASML的出口管制， 中方对此感到“不满”。