ASML跌约2%：大摩下调评级，警惕周期进入末期
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ASML新研究：2036年将冲击0.2nm工艺，超级NA光刻机将引领芯片制造变革
在全球半导体技术竞争愈发激烈的背景下，荷兰ASML公司近日透露，其正在研发下一代超级NA(HyperNA)光刻机，计划在2036年实现0.2nm工艺节点的制造。这一消息不仅吸引了业界的广泛关注，也为未来芯片制造技术的进步埋下了重磅伏笔。
ASML超级NA光刻机在路上：2036年挑战0.2nm工艺的未来愿景
光刻技术是半导体制造的基石，其性能直接关系到芯片的极限制程。在过去的几十年里，随着摩尔定律的不断推进，光刻机的技术也在不断演进。ASML的第一代LowNAEUV光刻机拥有0.33的孔径数值（NA），能够满足13.5nm的临界尺寸和26nm的最小金属间 ...
摩根士丹利警告DRAM放缓，ASML股价承压
周五，摩根士丹利调整了对ASML Holding NV (ASML:NA) (NASDAQ: ASML)股票的立场，将评级从增持下调至中性，并将目标价从之前的€925.00下调至€800.00。 投资公司指出，欧洲半导体资本设备板块可能面临潜在阻力，包括可能的支出放缓，这可能影响ASML在2025年和2026年的盈利增长。 阿斯麦公司以其半导体制造设备而闻名，可能面临挑战，原因是预计DRAM支出将 ...
来自MSN1 天
国产EUV光刻机，有了新进展了？较ASML的技术，有改进？
目前的光刻机技术，已经是发展到第六代了，也就是EUV光刻机。 如下图所示，这是六代光刻机的发展情况，以及其对应的光刻机分类，光源波长、能够制造的芯片最小制程等。 目前国内光刻机技术，理论上来讲，还在第四代，也就是ArF光刻机，也称之为干式DUV光刻机 ...
头部财经-新科技 on MSN3 天
国产套刻8nm光刻机引争议，我们追赶对象真的是ASML吗？
曾几何时，我们在光刻机领域，始终将ASML作为主要的追赶对象，包括此次目录中引发争议的套刻指标≤8nm的氟化氩光刻机，业内也都是将其与ASML类似的机型作为对比（目的是为了推断出咱们这款光刻机的实际水平），例如我们之前提及的ASML于2015年二季度 ...
8月日本对华半导体设备出口额大涨61.6%
9月20日，据Business Korea援引日本财务省最新发布的报告报道称，今年8月份日本对中国的半导体设备出口额同比飙升 61.6%，达到 1799 ...
老DUV光刻机都难买？荷兰扩大出口限制伤害了谁
在9月6日的荷兰政府公告中，正式表明以国家安全的名义，将扩大光刻机的出口限制，要求半导体设备制造商ASML的两款深紫外线光刻机（DUV） ...
替代部分美系设备成功！长江存储成功用国产设备制造3D NAND芯片
TechInsights称，虽然长江存储仍继续依赖ASML和泛林集团等外国供应商提供关键工具，但中国国产半导体设备供应商越来越多地承担了生产流程的大部分。